光伏級臭氧發(fā)生器

芯片氧化處理 芯片濕法清洗 干法清洗 光刻膠掩膜

CVD化學(xué)氣相沉積 蝕刻和植入  抗蝕劑去除 TEOS 正硅酸乙酯清洗

一、適用領(lǐng)域：

1、 制藥

2、化妝品

3、半導(dǎo)體

4、水產(chǎn)加工

5、大棚蔬菜

6、養(yǎng)殖場

二、主要特點

1、單位處理能力:

       - LIAN® 1 : 9g/O3.h

       - LIAN® 2 : 18g/O3.h

       - LIAN® 3 : 36g/O3.h

       - LIAN® 4 : 72g/O3.h

       - LIAN® 5 : 108g/O3.h

       用于工業(yè)和制藥行業(yè)超純水回路的最有效消毒方式LIAN®是聯(lián)洋臭氧公司電解式臭氧發(fā)生器的最新一代產(chǎn)品，采用固體聚合物電介質(zhì)和最先進的電子技術(shù)制造臭氧。

2、優(yōu)越性

       (1)低壓、電解式臭氧制備

       (2)容易升級：9gO3/h . 9gO3/h

       (3)用戶友好的單元控制方式，遠程控制，無電離污染

       (4)易于安裝的一體化維護系統(tǒng)

       (5)已為制藥行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)所認可

3、臭氧技術(shù)

       LIAN® 電解工藝是利用水，而非氣態(tài)空氣或氧氣制備臭氧的獨特工藝。原水取自超純水回路，進入反應(yīng)單元的陽極室，在陽極和電化穩(wěn)定膜之間的接觸表面被分成兩種成分。氫質(zhì)子進入膜，在陰極一側(cè)被壓縮為氫氣后釋放到大氣中，而在陽極一
側(cè)的自由氧則轉(zhuǎn)化為臭氧，很快為進水所吸收。離開反應(yīng)單元的水/氧氣/臭氧混合物重新被注入在回路內(nèi)的循環(huán)水體內(nèi)。

4、工作原理

       LIAN®裝置是超純水消毒的有效手段。因為臭氧利用待處理水制備，整個過程無污染生成，無需使用化學(xué)制品或其他額外的處理手段。通過投加0.1～0.2mg/l的臭氧將菌群的數(shù)量和生物膜形成降低至最低程度。若工藝中不再需要臭氧，第一處純水使用點前安裝有紫外線輻射臭氧破壞單元。

5、標(biāo)準(zhǔn)

       - 電 源: 1 x 220 VAC ± 10%, 50/60 Hz

       - 調(diào)節(jié)范圍: 8…100%

       - 環(huán)境溫度: +5...40°C / +41…104°F

       - 設(shè)計海拔: < 1000 m.a.s.l.

       - 濕 度: RH < 65% (年平均)

       - 保護等級: IP 54, Nema 12

       - 執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):  ISO, CE

6、遠程控制和報警

       - 臭氧制備開/關(guān)

       - 外部控制

       - 報警確認

       - 設(shè)定值（4…20mA ）

       - 集體報警

7、輔助設(shè)備

       - 紫外線臭氧破壞單元

       - 剩余臭氧分析儀

       - 臭氧尾氣加熱破壞器

       - 線夾插頭，用于SERTO連接

8、材質(zhì)

       - 設(shè) 備 箱：不銹鋼SUS 304

       - 受 潮 面：ANSI 316L SS,  PTFE, PVDF, viton

       - 連 接：SERTO ANSI 316L SS